您现在的位置是: 资讯 > 滚动 > > 正文

光刻机是什么(光刻机的工作原理)

时间:2023-05-18 08:52:37 来源:品质网 发布者:DN032

光刻机是什么?

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为:接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

光刻机的工作原理

光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,因此,世界上只有少数厂家掌握。

标签: 光刻机是什么 光刻机的工作原理 掩模对

抢先读

相关文章

热文推荐

精彩放送

关于我们| 联系我们| 投稿合作| 法律声明| 广告投放

版权所有© 2011-2023  产业研究网  www.coalstudy.com

所载文章、数据仅供参考.本站不作任何非法律允许范围内服务!

联系我们:39 60 29 14 2 @qq.com

皖ICP备2022009963号-13